AS600DMTXB

AS600DMTXB型PVD离子镀膜设备可以用于沉积DLC类金刚石涂层以及常规的硬质涂层，技术规格如下：

真空室尺寸	Ø1000mm * H1000mm
均匀可镀区	Ø600mm * H600mm
极限真空度	3.0*E-4Pa
压升率	0.2Pa/hr
冷却水	6ton/hr
占据空间	4.5*4.0*3.5
抽气系统	粗抽泵+罗茨泵+分子泵+前级泵
真空检测	复合真空计+薄膜真空规
工艺气体MFC	4路
转架	可移出式下转架（4轴、5轴、6轴、8轴任选）
4G-CAE®电弧	最多9套（3列*3套/列）
磁控溅射	最多6套（平面靶或柱状靶）
GIS气体离子源	1套
偏压电源	1套
Smart智能源挡板	1套，实现镀膜前的靶材预清洗
加热系统	500度，3根热电偶监测
冷却水循环系统	配日本SMC水流开关，智能控制
电气元件	日本欧姆龙PLC、端子、施耐德等空开、接触器