1、每台设备均配备两组阴极电弧蒸发离化源（分别为6套或10
套）和2对非平衡闭合磁场磁控溅射蒸发源系统，可同时安
装多达四种不同的纯金属或合金靶材。巨大的适用性实现并
满足各种复合多层镀膜的需要。
2、采用丹普公司研制开发的阴极电弧蒸发离化源(RACE1047)
(靶直径100mm)具有很好的工作可靠性：在高真空和低电流
条件下具有突出的工作稳定性和绝缘性能。(丹普专有技术)
(图1和2)
3、采用丹普公司研制开发的非平衡磁控溅射蒸发源闭合磁场
对靶结构设计。提高了镀膜区域的等离子体密度，改善了
镀膜的均匀性和结合力。
4、四路气体质量流量控制系统（带六路反应气体恒压分配系统）
。保证了各种镀镀应用的需要。
5、真空获得系统上均配备了旁通阀和步进电机驱动节流阀系统。
可实现三种真空模式的自动控制。0模式—真空度设定 ，1模
式—进气质量流量设定，和2模式--真空度和进气质 量流量
双设定，通过步进电机驱动旁通节流阀进行抽气速率的调整。
真空控制2模式达到了真空状态的最高控制精度，减少了由于
工件放气等不可控因素对镀膜一致性的干扰。（丹普独有技
术）（图3）
6、扩散泵上均配备了温度监测，温度控制器自动稳定扩散泵的
工作状态。罗茨真空泵均（与粗抽泵直连）通过变频器控制
驱动，实现罗茨泵和粗抽泵同时启闭。提高了罗茨泵系统的
抽气速率，延长使用寿命。（丹普专利技术）。
7、所有的AS和ProPower系列离子镀膜机均采用了PLC(下位机)
+ IPC（上位机）的计算机自动控制结构。中央控制柜上配有
完备的手动控制面板、按钮和仪表。十分友好和简单的IPC用
户界面提供：镀膜工艺菜单的准备和管理；设备实时监控和
报警帮助；物理参数实时自动纪录，等等。整个镀膜系统具
有极好的运行可靠性、过程控制的精度、镀制膜层质量的一
致性和色泽的重复性。 （图4） |
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