DLC类金刚石涂层设备

用GIS离子源技术制备DLC类金刚石膜
 

目前DLC类金刚石膜的制备方法很多，如：离子束辅助沉积、磁控溅射、真空阴极电弧沉积、等离子体增强化学气相沉积、离子注入法等。我公司的DLC类金刚石膜的制备方式采用阳极层流性气体离子源结合非平衡磁控溅射的方法，来获得纳米多层结构的MeC/DLC膜、纳米复合结构的Me-DLC膜或单（多）元素掺杂的类金刚石膜。

 

我公司可以用来制备DLC类金刚石膜的设备主要是AS600型和AS500型两种。