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丹普ES500设备照片送丝结构丹普ES500设备侧视图

ES500型IVD离子辅助蒸发镀设备

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磁性材料...
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  • 详细介绍
ES500是IVD离子辅助蒸发镀设备,以坩埚蒸镀为主,复合了磁控溅射和离子轰击技术,主要用于在各种零件产品(如:钕铁硼、专用紧固件等)表面镀铝,用于防腐蚀的应用,具体技术规格如下:
真空室尺寸 Ø1000mm * L1000mm (卧式)
均匀可镀区 Ø600mm * 700mm
极限真空度 3.0*E-4Pa
压升率 0.3Pa/hr
冷却水 5ton/hr
占据空间 4.0*3.0*3.5米
抽气系统 粗抽泵+罗茨泵+扩散泵+前级泵
真空检测 复合真空计
工艺气体MFC 2路
转架 卧式带二次自转
网笼 一次自转大网笼和二次自转小网笼
SMS磁控溅射 1套
蒸发舟 5套
连续送丝机构 5套
轰击电源 最高可达3000V
加热系统 最高300度,2根热电偶监测
自动控制 IPC+PLC全自动控制

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