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真空镀膜机各种镀膜方式的工作原理

发布时间:2017-07-06
真空镀膜机按镀膜方式主要可分为:蒸发式镀膜,磁控溅射镀膜和离子镀。
 
蒸发镀膜工作原理是将膜材置于真空镀膜室内,通过蒸发源加热使其蒸发,当蒸发分子的平均自由程大于真空镀膜室 的线性尺寸,蒸汽的原子和分子从蒸发源表面逸出后,很少受到其他分子或原子的冲击与阻碍,可直接到达被镀的基片表面,由于基片温度较低,便凝结其上而成膜。
 
溅射镀膜的形成是利用真空辉光放电,加速正离子使其轰击靶材表面引起的溅射现象,使靶材表面放出的粒子沉积到基片上而形成薄膜。
 
多弧离子镀原理是利用真空弧光放电计数用于蒸发源的技术,即在真空环境下引燃蒸发源(阴极),与阳极之间形成自持弧光放电,既从阴极弧光辉点放出阴极物质的离子。由于电流局部的集中,产生的焦耳热使阴极材料局部的爆发性地等离子化,在工作偏压的作用下与反应气体化合,而沉积在工件表面是形成被镀的膜层。
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