动态资讯

News information

推荐产品

Recommended products

  • ES500型IVD离子辅助蒸发镀设备

    ES500型IVD离子辅助…

  • AS600DMTXB

    AS600DMTXB

  • AS510DMTXB

    AS510DMTXB

  • AS710DTXB

    AS710DTXB

  • AS700DTXB

    AS700DTXB

热门消息

Hot News

行业动态 当前位置:主页 > 关于丹普 > 动态资讯 > 行业动态 >

2017全国薄膜技术学术研讨会

发布时间:2017-08-04
  会议时间:2017年8月19日至22日(19日为会议报到日)
 
  会议地点:合肥,安徽世纪金源大饭店
 
  主办单位:中国真空学会薄膜专业委员会
 
  承办单位:合肥工业大学、安徽大学、稀土永磁材料国家重点实验室
 
  支持单位:安徽大地熊新材料股份有限公司
 
  支持媒体:《真空科学与技术学报》、《真空》、中国真空网
 
  会议特邀报告
 
  会议将邀请国内外真空薄膜与表面工程领域的知名专家做特邀报告,目前特邀报告人正在确定及更新中。
 
  会议内容
 
  本次会议将研讨、展示近两年来我国薄膜材料与技术的最新成就,将邀请薄膜技术研究方面有资深造诣的院士、专家到会作精彩报告,将成为薄膜技术学术研究和产业应用交融的又一次盛会。
 
  会议论文征集情况
 
  自本届会议第一轮通知(征文通知)发布以来,得到了全国真空薄膜领域的广大科研工作者的支持,全部论文摘要将收录《TFC'17全国薄膜技术学术研讨会论文摘要集》,还需要投稿的代表,请尽快将摘要发送到会议组委会,邮箱地址为liumq10@163.com,截止8月5日。论文格式要求及征文范围见第一轮通知。
 
  论文现场发表形式
 
  本届会议论文发表采用报告形式,企业参展可采用展台和墙报形式。采用会议报告方式的作者请事先准备好电子版PPT文件。大会主旨报告时间为40分钟,特邀报告的报告时间为30分钟,分会邀请报告的报告时间为20分钟,其他专题报告的报告时间为15分钟(以上报告时间均含提问)。本届会议将评选10篇优秀论文,对所评选的优秀论文,将颁发优秀论文证书及奖金。
 
  会议日程及联络信息
 
  会议时间:8月19日至22日
  会议安排:8月19日报到(会议方提供晚餐)
 
  8月20日上午大会主旨报告
  8月20日下午分会场报告
  8月21日上午分会场报告
  8月21日下午大会报告及闭幕式
  8月22日疏散
 
  联络信息:刘敏强(论文、会议报告)电话:13910180242Email:liumq10@163.com
 
  王瑞(会务)电话:13263457400Email:thinfilms@mail.tsinghua.edu.cn
 
  
返回列表 分享给朋友:
丹普表面技术二维码
微信二维码