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一种新的离子镀“黑”膜量产解决方案

发布时间:2012-08-08
  一、市场现状
 
  “黑”色PVD装饰膜近年来发展迅猛,在某些装饰镀膜领域甚至超过了传统的金色和银色,成为离子镀装饰膜市场的主流。黑色系大致分为深黑色和枪黑色两种,主要应用的产品包括:数码产品外壳(主要是手机壳)及配件、表壳表带、眼镜架、高尔夫球具、小饰品等。
 
  由于近年来PVD镀“黑”膜技术的日臻成熟和普及,越来越多的镀膜厂家已经掌握了这项技术,可以镀制出很好的黑色膜层。而此时,市场对“黑”膜的要求也越来越高,特别是在高端产品领域,不仅来对膜层色泽有更高的要求,而且对膜层的厚度、颜色均匀性、颜色重复性、耐磨性能以及附着力等各个方面都提出了更高的标准。
 
  目前市场上,几乎所有的厂家都采用磁控溅射的方法来镀“黑”膜。磁控溅射的膜层颗粒平整、致密、细腻
 
  ,表面光亮度高,很容易获得0.8微米以上的“黑”膜,并且保持极好的膜层表面光亮度,做出来的“黑”膜颜色也更黑。特别是由中频电源驱动的非平衡磁控溅射对(孪生)靶技术被广泛应用在“黑”膜装饰镀生产上,大大改善了磁控溅射金属离化率低,靶材容易“中毒”的缺点,而且圆柱形磁控溅射靶的应用又很好的改善了矩形磁控溅射靶靶材利用率低的缺点。但是,磁控溅射由于镀膜可控窗口窄,不易控制,所以对镀膜工艺师的要求也相对更高。
 
  二、一种新的离子镀“黑”膜解决方案
 
  丹普公司利用最新开发的4G电弧技术,成功的开发出能满足市场要求的“黑”膜,为广大客户提供一种新的离子镀“黑”膜的解决方案。
 
  4G电弧技术简介:
 
  4G电弧技术属于阴极电弧技术的范畴,只是在传统电弧的基础上,增加了一套驱动组件,以改善电弧技术的一些技术缺陷,以满足市场对膜层质量的更高要求。
 
  阴极电弧技术有很多的优点是磁控溅射技术所不能比拟的,例如:金属离化率高、沉积速率快、膜基结合力好、操作简单、稳定性强、镀膜室空间利用率大、生产效率高等。但是,用传统电弧技术镀制“黑”膜却受到了极大的限制,传统的阴极电弧由于很难在小弧流下稳定工作,而弧电流大蒸发的金属组分(Ti或Cr)多,相对应,要生成高富C的TiC或CrC受到限制,很难获得很深黑色的膜,而且由于电弧的最大的缺陷—“微液滴”的存在,传统电弧不能镀制厚度超过0.5微米的膜层,否则膜层粗糙不光亮,俗称“发朦”,而且由于“微液滴”的存在,膜层存在针孔,还降低了抗摩擦和耐腐蚀性能。在目前市场镀“黑”膜的应用上,电弧和磁控溅射共同使用,但是大多只用作轰击清洗、打底使用,有些高档产品甚至已经完全摒弃了电弧,只是用磁控溅射来镀“黑”。
 
  我公司最新开发的4G电弧技术通过配置特殊的驱动装置,在继承了传统电弧的所有技术优点的同时,又在很大的程度上改善了传统电弧的缺陷—“微液滴”。通过大量的实验,不断的改进工艺参数,成功的开发出质量非常好的“黑”膜的工艺,完全出乎我们的预料,我们利用4G电弧技术开发的“黑”膜质量完全满足市场的要求,已经给多家客户提供样品,并通过一系列测试,获得客户的好评,并引起市场的极大关注。
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