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丹普受邀参加霍廷格举办的等离子工程电子电力应用会议

发布时间:2017-05-17

  等离子工程电子电力应用会议(Power Electronics For Plasma Engineering,简称PE2),于2017年5月16-18日在位于波兰杰隆卡的霍廷格公司(TRUMPF Huettinger)举行。会议由霍廷格公司专家主持,会议每年召开一次,本次会议邀请了国际上电子电力及表面领域的知名专家、学者以及企业界代表,北京丹普表面技术有限公司也应邀派专家参会,共同对表面处理及离子工程技术发展现状、发展趋势、如何进一步推进行业发展等话题进行了热烈讨论。本次会议参会人数达到100余人,参会代表覆盖多个国家和地区,在国内外电子电力及表面处理工程领域具有较高的学术水平和广泛的影响力。
 

 
  在16日的会议中,霍廷格公司Dr.R.Bugyi先生致欢迎辞,Schaeffler集团公司的Dr.Y.Musayev对汽车和工业厂家如何通过表面技术实现增值做简短的介绍;Hauzer公司的D.Doerwald和R.Tietema对PVD技术的发展做了介绍;First Solar公司的B.Clark-Phelps和M.Latusek做了ARC管理对半导体材料溅射的重要性的演讲;霍廷格公司P.Lesiuk做了在光学和功能性涂料的反应沉积由反向电压和脉冲参数设置的修改过程和薄膜性质的报告;以及众多专家在电气、光学、表面及材料处理方面做了精彩的演讲。
 

会议现场


北京丹普表面技术有限公司董骐经理与国外专家交换意见


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