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丹普4G-CAE电弧技术镀制20微米TiN膜层的测试报告

发布时间:2017-06-28
  TiN涂层是目前应用于刀具、模具以及关键零部件最为广泛的涂层,它具有硬度高、摩擦系数低等特点,传统TiN涂层的厚度基本都在3-5微米,由于膜层生长结构的原因,很难将膜层沉积到20微米,而北京丹普表面技术有限公司利用GISETCH+4G-CAE电弧技术完美的解决了这一问题。点击这里查看4G-CAE专利技术介绍
 
  本试验基于丹普AS500型工具镀硬质涂层设备,使用GISETCH+4G-CAE技术,在高速钢机体表面沉积20微米TiN涂层,其表面形貌、组织结构及性能的测试,达到了非常理想的效果。
 
  试验条件:
 
  设备:AS500试验机
  基片:高速钢试片
  镀膜温度:420℃
  镀膜方式:GISETCH+4G-CAE
  膜层材料:TiN
 
  测试结果:
 
膜层厚度(球磨法):21.159微米


硬度值HK/25gf:2980HK


洛氏压痕级别:HF1级


划痕结合力:LC2=100N

折弯测试:不锈钢折弯形貌较好,表层膜层未脱落

 
 
  结论:
 
  使用丹普4G-CAE阴极电弧技术处理的涂层可以有效减少镀制过程中的微液滴,极大的提高了电弧涂层的表面光亮度、硬度及耐磨性,膜层更加致密,色泽更加饱满,还可以提高靶材利用率,靶材利用率可达70%,从而大幅提高了TiN涂层的性能。
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